特許

J-GLOBAL ID：200903094605039944

濾過装置、濾過装置の使用方法、濾過方法、及び液処理システム

発明者： 丸茂 吉典 ,  佐藤 浩
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-052591
公開番号（公開出願番号）：特開2002-248305
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：

【要約】【課題】 濾過効率を向上させることができる濾過装置、濾過装置の使用方法、濾過方法、及び液処理システムを提供する。【解決手段】 濾過装置63bの蓋体633の上部に管状部材640を、蓋体633を貫通するように取り付ける。また、蓋体633の内部に配設される外側支持容器648の上面に開口651を形成する。この蓋体633の管状部材640を外側支持容器648の開口651に挿入して、不純物含有メッキ液を濾過する。

請求項（抜粋）：

不純物を含有した処理液が流入する流入口と不純物を低減させた処理液が流出する流出口とを備えた容器と、前記容器内に、前記流入口と前記流出口とを仕切るように配設された前記不純物を含有した処理液を濾過する濾過部材と、前記流出口側の前記濾過部材に溜まる気体を除去する気体除去手段と、を具備することを特徴とする濾過装置。

IPC (3件)：

B01D 36/00 ,  B01D 29/00 ,  C25D 17/00

FI (3件)：

B01D 36/00 ,  B01D 29/00 A ,  C25D 17/00 L

Fターム (1件)：

4D066AB10