特許

J-GLOBAL ID：200903094624260716

洗浄剤及び洗浄方法

発明者： 毛塚 健彦 ,  板野 充司 ,  久保 元伸
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社
代理人 (1件)： 田村 巌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-024850
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216392
出願日： 1994年01月26日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：

【要約】【目的】 特定の構造を有する界面活性剤を特定の組成で用いることにより極めて顕著な微粒子付着防止効果を有するシリコンウエハ等の表面の洗浄剤及びこれを用いたシリコンウエハ等の表面の洗浄方法を提供する。【構成】 0.1〜4重量%のフッ化水素酸、50〜1500ppm濃度の下記一般式(1)の界面活性剤又は50〜100000ppm濃度の下記一般式(2)若しくは(3)の界面活性剤、残部が水よりなることを特徴とする洗浄剤及びこれを用いたシリコンウエハ等の表面の洗浄方法。RfCOONH4 (1)(式中Rfは炭素数5〜9の含フッ素炭化水素基を示す。)Rf'O(CH2CH2O)nR (2)Rf'(CH2CH2O)nR (3)(式中Rf'は炭素数5〜15の含フッ素炭化水素基、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、nは5〜20を示す。)

請求項（抜粋）：

0.1〜4重量%のフッ化水素酸、50〜1500ppm濃度の下記一般式(1)の界面活性剤又は50〜100000ppm濃度の下記一般式(2)若しくは(3)の界面活性剤、残部が水よりなることを特徴とする洗浄剤。RfCOONH4 (1)(式中Rfは炭素数5〜9の含フッ素炭化水素基を示す。)Rf'O(CH2CH2O)nR (2)Rf'(CH2CH2O)nR (3)(式中Rf'は炭素数5〜15の含フッ素炭化水素基、Rは水素又は炭素数1〜4のアルキル基、nは5〜20を示す。)

IPC (6件)：

C11D 7/08 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/72 ,  C23G 1/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/308

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭60-039176
  
• 特開平3-053083
  
• 特開平4-271882
  
• 特開昭60-039176
  
• 特開平3-053083
  
• 特開平4-271882