特許
J-GLOBAL ID：200903094639678113

絶縁膜形成用塗布液及び絶縁膜の形成方法

発明者：
八木橋 不二夫

八木橋 不二夫 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-091325
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281904
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】【解決手段】 重量平均分子量が4,000〜100,000であるポリ(フェニルシルセスキオキサン)ラダーポリマーを含有する絶縁膜形成用塗布液。【効果】 本発明によれば、耐クラック性、耐熱性に優れ、比誘電率の低い緻密な絶縁膜を形成し得る。
請求項（抜粋）：
重量平均分子量が4,000〜100,000であるポリ(フェニルシルセスキオキサン)ラダーポリマーを含有する絶縁膜形成用塗布液。
IPC (2件)：
C08L 83/04 ,  C08G 77/14
FI (2件)：
C08L 83/04 ,  C08G 77/14
Fターム (14件)：
4J002CP031 ,  4J002ED026 ,  4J002EE036 ,  4J002EH036 ,  4J002FD206 ,  4J002GH01 ,  4J035BA12 ,  4J035CA051 ,  4J035CA30N ,  4J035CA301 ,  4J035EB02 ,  4J035EB10 ,  4J035LA03 ,  4J035LB20
引用特許：
審査官引用 (3件)

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