特許
J-GLOBAL ID：200903094651790336
プラズマ処理方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160915
公開番号（公開出願番号）：特開平6-002149
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理方法において、低圧雰囲気の形成・制御用の装備が不要であり、処理の不均一が解消でき、適切な大面積処理と製造コストの低減が実現できる改善策を提供する。【構成】 この発明では、対向して設置された一対の電極2,3の間に大気圧付近の圧力下で生起させられたプラズマであって、電極の少なくとも一方の電極の他方の電極に臨む面に開口した通気孔16・・からのガス導入を伴うプラズマにより、被処理物の表面を処理するにあたり、通気孔が開口する面の上に多孔質体20を設けておいて、通気孔からのガスが多孔質体を通ってプラズマに入るようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
対向して設置された一対の電極の間に大気圧付近の圧力下で生起させられたプラズマであって、前記電極の少なくとも一方の電極の他方の電極に臨む面に開口した通気孔からのガス導入を伴うプラズマにより、被処理物の表面を処理するプラズマ処理方法において、前記通気孔が開口する面の上に多孔質体を設けておき、前記通気孔からのガスが前記多孔質体を通ってプラズマに入るようにしたことを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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