特許

J-GLOBAL ID：200903094667373972

ハイドロキノンモノエステル化合物の合成方法

発明者： 川本 博之 ,  竹内 寛
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-158725
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342234
出願日： 2002年05月31日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 工業的に合成中間体として有用なハイドロキノンモノエステル化合物を、塩基を用いないで温和な反応条件下にて高収率で合成する方法を提供すること。【解決手段】 式(I)の化合物と式(II)の化合物とを塩基を用いずに反応させる。【化1】(R1はアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基またはアミノ基、Xはハロゲン原子、Yは置換基、nは0〜4の整数を表す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表わされる化合物と下記一般式(II)で表わされる化合物とを塩基を用いずに反応させて、下記一般式(III)で表わされる化合物を合成することを特徴とするハイドロキノンモノエステル化合物の合成方法。【化1】(上式中、R1はアルキル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基またはアミノ基を表わし、これらの基は置換基を有してもよい。Xはハロゲン原子を表わす。Yは置換基を表わす。nは0または1〜4の整数を表わし、nが複数のとき各Yは同じでも異なってもよく、Yが互いに結合して環形成してもよい。)

IPC (11件)：

C07C 67/14 ,  C07C 69/017 ,  C07C 69/28 ,  C07C 69/614 ,  C07C 69/734 ,  C07C 69/78 ,  C07C269/00 ,  C07C271/44 ,  C07C319/20 ,  C07C323/20 ,  C07C323/52

FI (12件)：

C07C 67/14 ,  C07C 69/017 B ,  C07C 69/017 C ,  C07C 69/28 ,  C07C 69/614 ,  C07C 69/734 Z ,  C07C 69/78 ,  C07C269/00 ,  C07C271/44 ,  C07C319/20 ,  C07C323/20 ,  C07C323/52

Fターム (14件)：

4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006BB41 ,  4H006BC10 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM72 ,  4H006BN30 ,  4H006BP10 ,  4H006BP30 ,  4H006RA22 ,  4H006RB32 ,  4H006TA04 ,  4H006TB42 ,  4H006TB55