特許
J-GLOBAL ID:200903094677817305

ポリスルフィドシランの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-353706
公開番号(公開出願番号):特開2004-182675
出願日: 2002年12月05日
公開日(公表日): 2004年07月02日
要約:
【解決手段】下記式(1)(R1O)(3-p)(R2)pSi-R3-Sm-R3-Si(OR1)(3-p)(R2)p...(1)のスルフィド鎖含有有機珪素化合物、下記式(2)(R1O)(3-p)(R2)pSi-R3-X ...(2)のハロゲン基含有有機珪素化合物及びNa2S、必要により硫黄を反応させて、下記式(3)(R1O)(3-p)(R2)pSi-R3-Sn-R3-Si(OR1)(3-p)(R2)p...(3)(但し、m>n)のスルフィド鎖含有有機珪素化合物を製造する際、上記式(2)のハロゲン基含有有機珪素化合物に、下記式(4)Y(4-q-r)(R4)qSi(R5)r ...(4)のハロシランを添加したものを使用する。【効果】本発明によれば、ゴム混練時のムーニー粘度を低下させることができるゴム用配合剤を得ることができる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記平均組成式(1) (R1O)(3-p)(R2)pSi-R3-Sm-R3-Si(OR1)(3-p)(R2)p...(1) (式中、R1及びR2は炭素数1〜4の1価炭化水素基、R3は炭素数1〜10の2価炭化水素基、pは0,1又は2、mは平均値として2〜8の正数を示す。)で表されるスルフィド鎖含有有機珪素化合物、下記一般式(2) (R1O)(3-p)(R2)pSi-R3-X ...(2) (式中、R1、R2、R3、pは上記と同様であり、Xはハロゲン原子を示す。)で表されるハロゲン基含有有機珪素化合物及びNa2Sで表される無水硫化ソーダ、更に必要により硫黄を反応させて、下記平均組成式(3) (R1O)(3-p)(R2)pSi-R3-Sn-R3-Si(OR1)(3-p)(R2)p...(3) (式中、R1、R2、R3、pは上記と同様であり、nは平均して2〜4の正数であるが、m>nを満足する数を示す。) で表されるスルフィド鎖含有有機珪素化合物を製造する際、上記式(2)のハロゲン基含有有機珪素化合物に、下記一般式(4) Y(4-q-r)(R4)qSi(R5)r ...(4) (式中、Yはハロゲン原子、R4は炭素数1〜4の1価炭化水素基、R5は炭素数1〜18の1価炭化水素基、qは0,1又は2、rは0,1又は2、但しq+r≦3を示す。) で表されるハロシランを添加することを特徴とするポリスルフィドシランの製造方法。
IPC (3件):
C07F7/18 ,  C08K5/548 ,  C08L21/00
FI (3件):
C07F7/18 W ,  C08K5/548 ,  C08L21/00
Fターム (18件):
4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ49 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS49 ,  4H049VT03 ,  4H049VT10 ,  4H049VT28 ,  4H049VT37 ,  4H049VU16 ,  4H049VW02 ,  4J002AC001 ,  4J002AC011 ,  4J002AC061 ,  4J002AC071 ,  4J002AC081 ,  4J002EX086

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