特許

J-GLOBAL ID：200903094691012751

縦型熱処理装置

発明者： 加藤 和彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327824
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144023
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 熱逃げを低減し、ゾーン加熱効率や制御性を改善する。【解決手段】 多数の被処理体wを高さ方向に配列支持した状態で収容する処理容器3の周囲に高さ方向に複数のゾーンに分割して加熱制御可能とした円筒状のヒータ4を設置し、このヒータ4と処理容器3の間に金属汚染防止管5を配置してなる縦型熱処理装置において、前記金属汚染防止管5におけるヒータ4のゾーン境界Zxと対応する部分に低熱伝導部材13を介設している。

請求項（抜粋）：

多数の被処理体を高さ方向に配列支持した状態で収容する処理容器の周囲に高さ方向に複数のゾーンに分割して加熱制御可能とした円筒状のヒータを設置し、このヒータと処理容器の間に金属汚染防止管を配置してなる縦型熱処理装置において、前記金属汚染防止管におけるヒータのゾーン境界と対応する部分に低熱伝導部材を介設したことを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/22 501

FI (3件)：

H01L 21/22 511 A ,  H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/22 501 F