特許

J-GLOBAL ID：200903094706774785

磁場発生装置、磁場発生方法、スパッタ装置及びデバイスの製造方法

発明者： 佐々木 雅夫
出願人/特許権者： キヤノンアネルバ株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-106310
公開番号（公開出願番号）：特開2009-299184
出願日： 2009年04月24日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：

【課題】 ターゲット面近傍のプラズマ状態の更なる安定化を図ること。【解決手段】 磁場発生装置は、永久磁石と、前記永久磁石の外周側面を囲むように配置されている磁性体よりなる分離されているヨークと、前記ヨークの間に位置する非磁性体と、を有する磁石組立が、少なくとも3個以上一直線に沿って配置されることにより構成される磁石組立群を備える。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

磁場発生装置であって、 永久磁石と、前記永久磁石の外周側面を囲むように配置されている磁性体よりなる分離されているヨークと、前記ヨークの間に位置する非磁性体と、を有する磁石組立が、少なくとも3個以上一直線に沿って配置されることにより構成される磁石組立群を備え、 一の磁石組立群を構成している1つ又は2つ以上の隣接した磁石組立が一の面側に一の極性を示し、 前記一の磁石組立群を構成している1つ又は2つ以上の隣接した磁石組立を隣接して囲む包囲磁石組立により生成される前記一の面側の磁束密度の大きさは、前記一の磁石組立群を構成している1つ又は2以上の隣接した磁石組立により生成される前記一の面側の磁束密度の大きさより小さく、 前記一の磁石組立群を構成している1つ又は2つ以上の隣接した磁石組立を隣接して囲む包囲磁石組立は、前記一の磁石組立群を構成している1つ又は2つ以上の隣接した磁石組立の極性と反対の極性を前記一の面側に示す磁石組立又は永久磁石に隣接して囲まれることを特徴とする磁場発生装置。

IPC (1件)：

C23C 14/35

FI (1件)：

C23C14/35 A

Fターム (7件)：

4K029BA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DA03 ,  4K029DC40 ,  4K029DC42 ,  4K029DC43 ,  4K029DC45