特許
J-GLOBAL ID：200903094710322791
コリメータを有するPVDチャンバの洗浄
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-102536
公開番号（公開出願番号）：特開平6-346223
出願日： 1994年05月17日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ターゲットと基板サポートとの間でコリメータが用いられる物理的蒸着チャンバに関し、その目的は、チャンバ内を効果的にプラズマ洗浄する方法を提供することにある。【構成】 コリメータが物理的蒸着チャンバ内のターゲットと基板サポートとの間で用いられている場合、コリメータはチャンバの壁面に接地されているので、コリメータはプラズマの障壁として機能し、チャンバは電気的に分割される。従って、特にチャンバ構成要素を交換或は取り外す際に、チャンバの構成要素から自然酸化物等を除去するために、2段階のプラズマ洗浄処理を行うことが必要となる。第1プラズマ洗浄段階は、従来と同様、コリメータの上面を含むチャンバ上部部分を洗浄する。次いで、正のバイアス電源を基板サポートに接続し、コリメータと基板サポートとの間に第2の洗浄用プラズマを発生させ、コリメータの下面を含むチャンバ下部部分を洗浄する。
請求項（抜粋）：
物理的蒸着チャンバにおいて、カバープレートと、基板サポートと、前記物理的蒸着チャンバへのガスの供給源と、前記物理的蒸着チャンバのための真空源と、ターゲット及び基板サポートの間に取り付けられたコリメータとを備え、基板サポートを正のバイアス電源に接続したことを特徴とする物理的蒸着チャンバ。
IPC (2件)：
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