特許

J-GLOBAL ID：200903094713038539

光学補償シートおよび光学補償シートの製造方法

発明者： 西川 秀幸 ,  河田 憲
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276740
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100028
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 シンナモイル基を側鎖に有するディスコティック液晶性分子から形成された光学的異方性層の光重合時に、シンナモイル基の光反応を抑え、光学的な異方性を保持したまま配向を固定化することが可能な光学補償シートの製造方法、光学補償シートおよびSTN型液晶表示装置を提供すること。【解決手段】 透明支持体上に、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子からなる塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して光学的異方性層を形成することからなる光学補償シートの製造方法。

請求項（抜粋）：

透明支持体上に、下記一般式:【化1】[式中、A1およびA2は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1乃至12のアルキル基、および炭素原子数が1乃至12のアルコキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表し;Zは、ハロゲン原子、炭素原子数が1乃至12のアルキル基、炭素原子数が1乃至12のアルコキシ基、炭素原子数が2乃至13のアシル基、および炭素原子数が1乃至12のアルキルアミノ基、および炭素原子数が2乃至13のアシルオキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表し;Lは、-O-、-CO-、-S-、-NH-、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し;Qは、重合性基を表し;aは、1乃至5の整数を表し;そして、bは、0乃至4の整数を表す;但し、aとbとの和は、1乃至5の整数である]で表されるディスコティック液晶性分子からなる塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して光学的異方性層を形成することからなる光学補償シートの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  C09K 19/32 ,  G02F 1/13363

FI (3件)：

G02B 5/30 ,  C09K 19/32 ,  G02F 1/13363

Fターム (23件)：

2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB49 ,  2H049BC02 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC23 ,  2H091GA06 ,  2H091HA10 ,  4H027BA08 ,  4H027BA14 ,  4H027BB04 ,  4H027BD07 ,  4H027BD20 ,  4H027BE06 ,  4H027DM03 ,  4H027DM05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 液晶性混合組成物及び相転移温度を下げる方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-110511   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 薄膜の製造方法、光学的異方性シートおよび液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-135762   出願人：富士写真フイルム株式会社