特許

J-GLOBAL ID：200903094729166014

基板処理方法及び基板処理装置

発明者： 戸島 孝之 ,  上野 欽也 ,  山坂 都 ,  堤 秀介 ,  飯野 正
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-408842
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153289
出願日： 2003年12月08日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】 高い処理能力を得ることができる,基板処理方法及び基板処理装置を提供する。【解決手段】 表面に有機物の膜60が形成された基板Wを処理容器2内に収納する工程と,基板Wを加熱する工程と,オゾンガスと水蒸気を処理容器2内に供給し,有機物の膜60を水溶性に変質させる工程と,基板Wの表面を水洗する工程と,を有することを特徴とする,基板処理方法である。本発明によれば,処理直前に,基板Wの表面に処理能力が高い液体の液膜を生成するので,基板Wに対して効果的な処理を施すことができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

表面に有機物の膜が形成された基板を処理容器内に収納する工程と, 前記基板を加熱する工程と, オゾンガスと水蒸気を前記処理容器内に供給し,前記有機物の膜を水溶性に変質させる工程と, 前記基板の表面を水洗する工程と, を有することを特徴とする,基板処理方法。

IPC (3件)：

H01L21/304 ,  B08B3/00 ,  H01L21/027

FI (3件)：

H01L21/304 645B ,  B08B3/00 ,  H01L21/30 572B

Fターム (20件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB44 ,  3B201BB12 ,  3B201BB13 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CA03 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  5F046MA03 ,  5F046MA05 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10