光ディスク原盤の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195067
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036356
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【構成】レジスト表面を難溶化処理し、超解像光学系からなるレーザ光で露光し、多段階現像手段により、強く露光された領域のみのパターンを形成し、できあがった原盤をレジストの溶融温度近くまで加熱処理する。【効果】狭い案内溝を形成できるので、光ディスクのトラックピッチを小さくして高密度基板を作製するための原盤を作製することができた。また、原盤の記録表面を平滑にし、雑音成分が少ない、低ノイズ基板を作製することができ、信号成分の小さい光磁気ディスクなどの基板が作製できる見通しを得、その結果、S/Nの良い信号記録再生を実行することができる。

請求項（抜粋）：

基板表面に感光性材料を塗布する工程と、その感光性材料膜を、表面に光ディスクの案内溝情報あるいはセクタマークなどのアドレス情報を有する変調信号で点滅するレーザ光で照射し、露光する工程と、現像処理により前記露光に従い凹凸パターンを形成する工程とからなる光ディスクの原盤作製方法において、現像方法として、現像処理,水洗,乾燥の工程を複数回繰り返すことを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。

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