自動パターン分析方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-254780
公開番号（公開出願番号）：特開平11-166908
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：

【要約】【課題】本発明は自動パターン分析方法に関し、パターン分析を自動化することができる自動パターン分析方法を提供することを目的としている。【解決手段】パターンが繰り返しになっている多数のパターンについて、そのうちの一つの代表パターン上で分析点と分析方法、分析条件を決定し、他のパターンでは、代表パターンで定めた分析点と位置関係が同じ点において、代表パターンで定めた分析方法と分析条件で自動分析するように構成する。

請求項（抜粋）：

表面に基本パターンが繰り返し形成されているウェハについて、細束電子ビームを照射し、ウェハ表面から発生するX線を検出してX線分析を行うパターン分析であって、ウェハ上の一つの基本パターンを代表パターンとして選択し、この代表パターン上で分析点と分析方法、分析条件を決定・記憶し、他のパターンでは、代表パターンで定めた分析点と位置関係が同じ点において、代表パターンで定めた分析方法と分析条件で自動分析することを特徴とする自動パターン分析方法。

IPC (4件)：

G01N 23/225 , G01B 11/30 , H01L 21/66 , G01N 21/88

FI (4件)：

G01N 23/225 , G01B 11/30 D , H01L 21/66 J , G01N 21/88 E

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