特許
J-GLOBAL ID：200903094737143449
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-282563
公開番号（公開出願番号）：特開平7-193115
出願日： 1994年10月21日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：
【要約】【目的】 メンテナンス時などにおける組立作業や分解作業を行う場合に作業性に優れている真空処理装置を提供すること。処理ガス供給管と外管よりなる二重配管を狭いスペースで固定すること。【構成】 搬送手段21を備えた搬送室2にカセット室3A、3B及び真空処理室4A〜4Cを気密に接続し、搬送室2及びカセット室3A、3Bを支持フレーム20上に載せると共に真空処理室4A〜4Cを夫々独立した支持フレーム40A〜40C上に載せ、これら支持フレームを、底面部をなす共通の基台7上に設置しこの基台7内に電気配線及びガス配管を引き回す。また拡径部の前後に、通気路を備えたリング状部が形成され、径方向に分割可能な固定部材を用い、その中心部に処理ガス供給管を通し、リング状部に外管をなす樹脂チューブを嵌合し、固定部材を例えば支持フレームに固定する。
請求項（抜粋）：
真空雰囲気とされる搬送室に、複数の真空処理室と真空雰囲気とされる容器載置室とを気密に接続し、搬送室内の搬送手段により、容器載置室内の容器及び真空処理室間で被処理体の搬送を行う真空処理装置において、各真空処理室毎に独立して設けられ、真空処理室を夫々支持するための第1の支持フレームと、これら第1の支持フレームとは独立して設けられ、前記搬送室を支持するための第2の支持フレームと、これら第1及び第2の支持フレームが載置される共通の底面部をなす基台と、を有し、前記真空処理室、搬送室または容器載置室で使用される電気配線及びガス配管を前記基台の中に引き回わしたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B23Q 7/04
, H01L 21/02
