特許

J-GLOBAL ID：200903094749235403

粉体のプラズマ処理方法

発明者： 内山 宏 ,  赤染 義一
出願人/特許権者： イーシー化学株式会社 ,  伊藤忠ファインケミカル株式会社
代理人 (1件)： 田中 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163071
公開番号（公開出願番号）：特開平6-000365
出願日： 1992年06月22日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：

【要約】【目的】大量の粉体を連続的にプラズマ処理を施す粉体のプラズマ処理方法に関する。【構成】金属製の内筒の外側と同軸の金属製の外筒の内側の両方又は何れか一方に誘電体にてライニングを行い、これら内筒及び外筒を同軸的に軸支して両者間に一定の間隙を設け、これら内外筒を傾斜し、且つ、回転可能に設置し、内外筒間に電圧をかけて両者の間隙間に大気圧プラズマを発生させると共に該間隙間を被処理物である粉体を移動させて連続的にプラズマ処理を施すことを特徴とする粉体のプラズマ処理方法である。

請求項（抜粋）：

金属製の内筒の外側と同軸の金属製の外筒の内側の両方又は何れか一方に誘電体にてライニングを行い、これら内筒及び外筒を同軸的に軸支して両者間に一定の間隙を設け、これら内外筒を傾斜し、且つ、回転可能に設置し、内外筒間に電圧をかけて両者の間隙間に大気圧プラズマを発生させると共に該間隙間を被処理物である粉体を移動させて連続的にプラズマ処理を施すことを特徴とする粉体のプラズマ処理方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-145038
  
• 特開昭61-031319