特許

J-GLOBAL ID：200903094751627238

多層膜製造装置および製造方法

発明者： 楊 民挙 ,  長野 尉絵
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-168633
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363744
出願日： 2001年06月04日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：

【要約】【課題】 優れた透明性、導電性を兼ね備えた導電性多層構造選択反射膜を製造するための多層膜製造装置および方法を提供する。【解決手段】 第1スパッタ成膜部を備えた第1チャンバと、第2スパッタ成膜部を備えた第3チャンバと、第1チャンバと第3チャンバの間に設けられ、高真空排気機構と基板加熱機構とを備えた第2チャンバとからなり、これら各チャンバは、基板を各チャンバ間で移動するための基板搬送機構を備え、基板を第1チャンバと第3チャンバとの間で移動する際に、第2チャンバで加熱、高真空排気するようにすることで、雰囲気ガスの相互拡散を激減する。

請求項（抜粋）：

第1スパッタ成膜部を備えた第1チャンバと、第2スパッタ成膜部を備えた第3チャンバと、第1チャンバと第3チャンバの間に設けられ、高真空排気機構と基板加熱機構とを備えた第2チャンバとからなり、これら各チャンバは、基板を各チャンバ間で移動するための基板搬送機構を備えた多層膜製造装置。

IPC (4件)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/06 ,  H01L 21/203 ,  H01L 31/04

FI (5件)：

C23C 14/56 H ,  C23C 14/06 P ,  H01L 21/203 S ,  H01L 31/04 T ,  H01L 31/04 F

Fターム (36件)：

4K029AA06 ,  4K029BA35 ,  4K029BA43 ,  4K029BA47 ,  4K029BA48 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BA56 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029DA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA08 ,  4K029DB05 ,  4K029EA01 ,  4K029EA05 ,  4K029KA01 ,  5F051AA02 ,  5F051AA05 ,  5F051CB15 ,  5F051CB20 ,  5F051DA03 ,  5F051DA04 ,  5F051DA17 ,  5F051HA20 ,  5F103AA08 ,  5F103BB49 ,  5F103BB59 ,  5F103DD16 ,  5F103DD30 ,  5F103LL04 ,  5F103PP03 ,  5F103RR05 ,  5F103RR10