特許

J-GLOBAL ID：200903094765768012

現像装置および現像方法

発明者： 玉田 修 ,  真田 雅和 ,  田中 晶子 ,  中野 佳代子
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215691
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031475
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 短時間で基板の全面に処理液を効率よく均一に供給することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。【解決手段】 外側カップ5の両側にはそれぞれ待機ポット6,7が配置され、外側カップ5の一方の側部側にはガイドレール8が配設されている。現像液ノズルアーム9およびガスノズルアーム17がアーム駆動部10によりガイドレール8に沿って走査方向Aおよびその逆方向に移動可能に設けられている。現像液ノズルアーム9には、下端部にスリット状吐出口15を有する現像液吐出ノズル11がガイドレール8と垂直に取り付けられており、ガスノズルアーム17には、下端部にスリット状噴出口19を有するガス噴出ノズル16がガイドレール8と垂直に取り付けられている。

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板上に現像液を供給する現像液吐出ノズルと、前記基板上に気体を噴出する気体噴出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方の位置から前記基板上を通過して基板外の他方の位置まで前記現像液吐出ノズルおよび前記気体噴出ノズルを移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (7件)：

2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096GA23 ,  2H096GA26 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06