特許

J-GLOBAL ID：200903094766200001

プラスチック部品の成形用モールドおよびそれを用いたプラスチック部品の成形方法、プラスチック部品の成形用モールドの洗浄方法

発明者： 河西 嘉彦
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-103500
公開番号（公開出願番号）：特開2002-292636
出願日： 2001年04月02日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：

【要約】【課題】 プラスチック成形部品の品質および製造歩留まりは、その成形用モールドの清浄度に大きく左右されるが、その一方で成形用モールドの表面清浄化には、純水や電気など多くのエネルギーを必要としていた。本発明は低エネルギーで極めて高い清浄度を実現する清浄化技術を提供する。【解決手段】 プラスチック部品の成形用モールドの表面に光触媒層を全面もしくは部分的に配したプラスチック部品の成形用モールドを用いる。

請求項（抜粋）：

プラスチック部品の成形用モールドにおいて、前記成形用モールド表面に、酸化物半導体より構成される光触媒層を全面もしくは部分的に配してなることを特徴とするプラスチック部品の成形用モールド。

IPC (5件)：

B29C 33/38 ,  B01J 35/02 ,  B29C 33/72 ,  G02B 3/00 ,  B29L 11:00

FI (5件)：

B29C 33/38 ,  B01J 35/02 J ,  B29C 33/72 ,  G02B 3/00 Z ,  B29L 11:00

Fターム (19件)：

4F202AA21 ,  4F202AH74 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AM13 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CD22 ,  4F202CK11 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069BB06B ,  4G069BC12B ,  4G069BC50B ,  4G069CD10 ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FB02