特許
J-GLOBAL ID:200903094766390323

パターン露光方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 小林 和憲 ,  飯嶋 茂 ,  小林 英了
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-259119
公開番号(公開出願番号):特開2007-072171
出願日: 2005年09月07日
公開日(公表日): 2007年03月22日
要約:
【課題】 フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 感光層が設けられた帯状ワーク11は、ワーク搬送速度Vでワーク搬送方向Fに搬送される。照明部30は、ワーク搬送速度Vに同期された露光周期Tで、フォトマスク29に光を照射する。フォトマスク29は、帯状ワーク11に対してプロキシミティギャップを隔てて配置されており、マスクパターン33が周期的なパターンとして帯状ワーク11に露光される。【選択図】 図9
請求項(抜粋):
感光層を有する帯状もしくはシート状のワークを連続搬送し、このワークに対しプロキシミティギャップを隔てて配置されたフォトマスクを介して、周期的に露光時間ΔTだけプロキシミティ露光を行い、該フォトマスクに設けられたマスクパターンを、搬送方向に周期的な周期パターンとしてワークに露光することを特徴とするパターン露光方法。
IPC (2件):
G03F 7/20 ,  G02B 26/12
FI (2件):
G03F7/20 501 ,  G02B26/10 102
Fターム (7件):
2H045AA01 ,  2H045DA02 ,  2H097AB05 ,  2H097DB07 ,  2H097FA09 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
  • パターン露光方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-096769   出願人:凸版印刷株式会社
  • パターン露光方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-082695   出願人:凸版印刷株式会社
  • シート材の搬送装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-074702   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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