特許

J-GLOBAL ID：200903094781682314

検査方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、およびデバイス製造方法

発明者： クラメル,フーゴ,アウグスティヌス,ヨセフ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-191539
公開番号（公開出願番号）：特開2009-124101
出願日： 2008年07月25日
公開日（公表日）： 2009年06月04日
要約：

【課題】 例えば、測定されたスペクトルが計算されたスペクトルと比較され、スペクトルの計算が、精度の対応する低下を伴わずにより効率的の実行されるリソグラフィプロセスの少なくとも1つのプロセスパラメータを決定する方法を提供することである。【解決手段】 リソグラフィプロセスでターゲットパターンの構造パラメータを決定する方法で、一連の較正スペクトルが基準パターンから計算される。計算された各スペクトルでスペクトル分析が行われ、スペクトル成分と関連する重みが導出され、ライブラリに記憶され、または反復探索法のベースとして使用される。スペクトルはターゲットパターンから測定され、測定されたスペクトルのスペクトル分析が行われる。構造パラメータを決定するために、主成分の導出された重み係数が測定されたスペクトルの重み係数と比較される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板上にデバイス層を製造するために使用されるリソグラフィプロセスでターゲットパターンの構造パラメータを決定する方法であって、 基準パターンから一連の較正スペクトルを計算するステップであって、各スペクトルが前記基準パターンの構造パラメータの異なる既知の値を用いて計算されるステップと、 共通セットのスペクトル成分、および各々が計算された1つのスペクトルを表す複数の第1セットの重み係数を取得するために、選択された数のスペクトルポイントについて、計算された各較正スペクトルのスペクトル分析を行うステップと、 放射ビームを前記ターゲットパターンに向けることによって生成されるターゲットスペクトルを測定するステップと、 前記測定されたターゲットスペクトルを表す第2セットの重み係数を取得するために、前記計算された較正スペクトルの前記スペクトル分析によって得られた前記共通セットのスペクトル成分を使用して前記測定されたターゲットスペクトルのスペクトル分析を行うステップと、 前記第1セットの重み係数の表現と、前記第2セットの重み係数の表現とを比較するステップと、 前記比較を利用して前記ターゲットパターンの前記構造パラメータの値を導出するステップと、 を含む、方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G01N 21/956 ,  G01N 21/47

FI (4件)：

H01L21/30 502V ,  G01N21/956 A ,  G01N21/47 Z ,  H01L21/30 514E

Fターム (37件)：

2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB07 ,  2G051AC02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA08 ,  2G051BA11 ,  2G051BB03 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051BB15 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC09 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051ED21 ,  2G059AA02 ,  2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059GG09 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10 ,  2G059MM14 ,  5F046AA17 ,  5F046BA04 ,  5F046DB04 ,  5F046DD03