特許

J-GLOBAL ID：200903094790166892

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤森 亨 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-248940
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075282
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】パターンプロファイルの形状に優れ、特にパターンプロファイルの矩形性に優れ、現像欠陥やエッジラフネスの発生がなく、高解像力を有する、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)塩基性化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)塩基性含窒素化合物を含有するポジ型フォトレジストにおいて、前記樹脂(a)の酸分解性基が、酸の作用によって分解した残査が膜中に残存し、かつその残査が酸の作用によって分解してアルカリ可溶性の不揮発性化合物となることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (16件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB21 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB53 ,  2H025CC01