特許
J-GLOBAL ID：200903094791133378
レーザ光の照射方法及び素子の製造方法、並びに投影露光方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-248810
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074689
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】【課題】 製品の歩留まりの向上を図り得る投影露光方法を提供する。【解決手段】 レーザ光源12からのパルス光を所定のタイミングで発光しつつ投影光学系PLに対してマスクRと感光基板Wとを同期して走査することにより、マスクR上のパターンの像が逐次感光基板W上に投影露光され、マスクパターンの感光基板上への走査露光が行われる。この走査露光中に、パルス光の未発光時に対応するマスクと感光基板の位置が検出される。この検出結果に基づいて、未発光時の照明領域IAに対応するマスク上のパターンがその未発光時の露光領域EAに対応する感光基板上の領域に再露光される。このため、パルス光の未発光に起因する露光むらの発生を事前に防止することができ、結果的に製品の歩留まりの向上に寄与する事ができる。
請求項（抜粋）：
レーザ光源からのパルス光を試料に照射して所定の処理を行うレーザ光の照射方法であって、パルス光を所定のタイミングで発光しつつ前記パルス光の照射領域に対し試料面を相対走査する第1工程と;前記第1工程の相対走査中に、前記試料面上のパルス光の未発光領域の位置を検出する第2工程と;前記第2工程の検出結果に基づいて、前記試料面上のレーザ照射済み領域の内のパルス光の未発光領域に前記レーザ光を再照射する第3工程とを含むレーザ光の照射方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 516 C
, H01L 21/30 529
