特許

J-GLOBAL ID：200903094797621153

真空処理装置

発明者： 山崎 克弘
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-291103
公開番号（公開出願番号）：特開平11-131211
出願日： 1997年10月23日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】真空容器内に生成、堆積した物質を取り除くためのクリーニング処理の終点を自動的に検知することを課題とする。【解決手段】真空容器1内で被処理物にスパッタあるいはエッチングを行う真空処理装置において、真空容器1内の圧力を検出する圧力検出器5と真空容器1内の光強度を検出する光強度検出器4の少なくとも一方と、検出した情報を電気信号に変換して処理し、判定する演算器6とを具備し、真空容器1内に生成、堆積した物質を取り除くためのクリーニング処理の終点を検知することを特徴とする真空処理装置。

請求項（抜粋）：

真空容器内で被処理物にスパッタあるいはエッチングを行う真空処理装置において、真空容器内の圧力を検出する圧力検出器と真空容器内の光強度を検出する光強度検出器の少なくとも一方と、検出した情報を電気信号に変換して処理し、判定する演算器とを具備し、真空容器内に生成、堆積した物質を取り除くためのクリーニング処理の終点を検知することを特徴とする真空処理装置。

IPC (5件)：

C23C 14/00 ,  C23C 14/58 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

C23C 14/00 B ,  C23C 14/58 Z ,  C23F 4/00 F ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/302 E