特許

J-GLOBAL ID：200903094809535339

熱処理装置とその温度制御方法

発明者： 大加瀬 亘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-080954
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246261
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の温度を正確に測定してこの温度を精度良く制御することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】 複数の被処理体Wを所定のピッチで載置する載置台10を円筒体状の処理容器8内に収容し、この処理容器の外周に配置した加熱手段28により前記被処理体を加熱して所定の熱処理を施す熱処理装置において、前記処理容器の上方或いは下方に前記被処理体の表面を臨むように非接触型の温度測定手段54を設け、前記加熱手段にこの温度を測定するための接触型の温度測定手段34を設け、前記非接触型と接触型の温度測定手段の測定値に基づいて前記加熱手段の発熱量を制御する温度制御手段44とを備えるように構成したものである。これにより、被処理体の温度を正確に測定することができるので、この測定値に基づいて精度の高い温度制御を行なうことが可能となる。

請求項（抜粋）：

処理容器内に載置した被処理体を加熱手段により加熱して所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記被処理体の温度を測定するために非接触型の温度測定手段を設けるように構成したことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 511

FI (3件)：

H01L 21/31 E ,  H01L 21/22 501 N ,  H01L 21/22 511 Q