特許

J-GLOBAL ID：200903094810893478

処理装置

発明者： 佐田 徹也 ,  内平 則夫 ,  坂井 光広 ,  山口 恭満
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070851
公開番号（公開出願番号）：特開平10-254146
出願日： 1997年03月07日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 被処理基板の帯電を抑制して、帯電による障害を防止すること。【解決手段】 LCD基板Gを保持するスピンチャック21と、LCD基板Gの表面に現像液を供給する現像液供給ノズル22とを具備する処理装置において、スピンチャック21を、LCD基板Gを載置する載置部21aと、この載置部21の下面中央部に突出する回転軸取付用ボス部21bとで構成し、載置部21aを合成樹脂製部材にて形成する。また、ボス部21bの径を載置部21aの径に対して小径に形成すると共に、載置部21aの厚さを厚く形成する。これにより、LCD基板Gの帯電を抑制して、帯電による障害を防止することができる。

請求項（抜粋）：

被処理基板を保持する保持手段と、上記被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段とを具備する処理装置において、上記保持手段は、上記被処理基板を載置する載置部を有すると共に、この載置部を合成樹脂製部材にて形成してなる、ことを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

G03F 7/30 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 351

FI (3件)：

G03F 7/30 ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 569 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-205816
  
• 特開平1-160016
  
• 特開昭56-110940