特許

J-GLOBAL ID：200903094811029211

減圧洗浄乾燥装置

発明者： 山地 信幸 ,  橘 秀久 ,  村田 裕康 ,  伊藤 達規 ,  別宮 利明
出願人/特許権者： 株式会社三社電機製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-208775
公開番号（公開出願番号）：特開平10-034096
出願日： 1996年07月19日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 減圧下で蒸気洗浄し乾燥させる蒸気洗浄乾燥室の天井に結露し、発生する水滴を抑制し、水滴によるワークへの染みの発生を防止する。【解決手段】 洗浄室2と蒸気洗浄乾燥室3とを機密に分割する分割手段7と、上記蒸気洗浄乾燥室の天井3aに設けられ、上部がシールされ、下部に微細で開口する孔53aを有する薄板53で形成された蒸気溜り形成手段を備えた。

請求項（抜粋）：

下部にワークを洗浄液により洗浄させる洗浄室と、上部に洗浄後のワークを減圧下で洗浄液の蒸気を噴出させて蒸気洗浄を行い、さらに減圧下で乾燥させる蒸気洗浄乾燥室と、上記洗浄室と上記蒸気洗浄乾燥室とを上下に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室の天井に設けられ、上部がシールされ、下部に微細で開口する孔を有する薄板で形成された蒸気溜り形成手段とを備えた減圧洗浄乾燥装置。

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 洗浄乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-214919   出願人：木村化工機株式会社