X線装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-112864
公開番号（公開出願番号）：特開平11-290306
出願日： 1998年04月09日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】 X線吸収率の低い領域から高い領域までを含む撮像領域におけるX線像の画質を向上することが可能なX線装置を提供すること。【解決手段】 X線を発生し被検体に照射するX線照射手段と,該X線照射手段の前面に配置され前記被検体へ照射するX線の強度分布を制御するX線補償フィルタと,前記被検体のX線像を撮像する撮像手段とを有するX線装置において、前記撮像手段で撮像したX線像のコントラスト幅に応じて、前記X線補償フィルタの挿入領域を決定するしきい値設定手段を具備する。

請求項（抜粋）：

X線を発生し被検体に照射するX線照射手段と,該X線照射手段の前面に配置され前記被検体へ照射するX線の強度分布を制御するX線補償フィルタと,前記被検体のX線像を撮像する撮像手段とを有するX線装置において、前記撮像手段で撮像したX線像のコントラスト幅に応じて、前記X線補償フィルタの挿入領域を決定するしきい値設定手段を具備することを特徴とするX線装置。

IPC (2件)：

A61B 6/00 300 , A61B 6/00 320

FI (2件)：

A61B 6/00 300 J , A61B 6/00 320 M

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