特許
J-GLOBAL ID：200903094835489426
キセロゲル、及びそれらの調製方法と利用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-165959
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059224
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 改質SiO2ゲル(キセロゲル)、それらの調製、及び断熱材としてのそれらの利用。【構成】 キセロゲルは、水性水ガラス溶液を酸性化する工程、それによって製造された珪酸を、塩基を添加することによってSiO2ゲルに重縮合させる工程、冷却すると2つの相へと分離する共沸混合物を水と共に形成する有機溶媒を用いて抽出蒸留することによって、得られたゲルから水を除去する工程、ゲルをシリル化剤と反応させる工程、水を除去するために用いた有機溶媒の臨界圧力未満及び/又は臨界温度未満の圧力及び温度で乾燥させる工程によって調製される。
請求項（抜粋）：
以下の工程:即ち、a)酸イオン交換樹脂又は鉱酸を用いて、水性水ガラス溶液のpHを≦3.0に調整する工程、b)塩基を加えることによって前記工程で製造された珪酸をSiO2ゲルに重縮合させ、更に、工程a)で鉱酸を用いている場合には、電解質がなくなるまで水でゲルを適当に洗浄する工程、c)冷却すると2つの相へと分離する共沸混合物を水と共に形成する有機溶媒を用いて抽出蒸留することによって、ゲルの含水率が≦5重量%となるまで、工程b)で得られたゲルから水を除去する工程、d)工程c)で得られたゲルをシリル化剤と反応させる工程、e)工程c)で用いた有機溶媒の臨界圧力未満及び/又は臨界温度未満の圧力及び温度において、工程d)で得られたシリル化ゲルを乾燥させる工程を含む、キセロゲルを調製する方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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