特許
J-GLOBAL ID：200903094836233557

ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者：
樽谷 晋司

樽谷 晋司 について

, 
星野 渉

星野 渉 について

, 
吉留 正洋

吉留 正洋 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-100758
公開番号（公開出願番号）：特開2009-251392
出願日： 2008年04月08日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：
【課題】膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、(C1)活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、(C2)光ラジカル発生剤、、および、(D)ラジカル重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、 (C1)活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、 (C2)光ラジカル発生剤、 (D)ラジカル重合性基を有する化合物、 を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/038 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (20件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB42 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM