特許

J-GLOBAL ID：200903094854330276

画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法

発明者： 杉原 真児 ,  大明 準治
出願人/特許権者： アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
代理人 (3件)： 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-095464
公開番号（公開出願番号）：特開2006-276454
出願日： 2005年03月29日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：

【課題】 マスクパターンの撮像データに対して簡便な方法により、高精度の位置補正を行う方法を実現し、高信頼性のパターン欠陥検査方法を実現する。【解決手段】 この画像補整方法は、パターンが形成されている試料に光を照射し、その光学像を撮像した被検査パターン画像と、この被検査パターン画像に対応する検査基準パターン画像とを比較検査するパターン検査方法で用いる画像補正方法において、前記被検査パターン画像、及び検査基準パターン画像に対して2次元線形予測モデルを用いた入出力関係を記述する連立方程式を生成する連立方程式生成ステップと、前記入出力関係を記述した連立方程式を最小二乗法で推定して前記連立方程式のパラメータを求める連立方程式解法ステップと、前記パラメータの重心位置を求めるステップと、前記重心位置の値を用いて線形結合補間処理を行うことにより補正画像を生成するステップとからなっている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

パターンが形成されている試料に光を照射し、その光学像を撮像した被検査パターン画像と、この被検査パターン画像に対応する検査基準パターン画像とを比較検査するパターン検査方法で用いる画像補正方法であって、 前記被検査パターン画像、及び検査基準パターン画像に対して2次元線形予測モデルを用いた入出力関係を記述する連立方程式を生成する第1のステップ(連立方程式生成ステップ)と、 前記入出力関係を記述した連立方程式を最小二乗法で推定して前記連立方程式のパラメータを求める第2のステップ(連立方程式解法ステップ)と、 前記パラメータの重心位置を求める第3のステップと、 前記重心位置の値を用いて補間処理を行うことにより補正画像を生成する第4のステップと、を少なくとも備えることを特徴とする画像補正方法。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00 ,  G06T 7/60 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F1/08 T ,  G03F1/08 S ,  G01B11/30 A ,  G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A ,  G06T7/60 150C ,  H01L21/30 502P

Fターム (54件)：

2F065AA03 ,  2F065AA09 ,  2F065AA17 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC17 ,  2F065CC18 ,  2F065FF04 ,  2F065HH15 ,  2F065LL00 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ39 ,  2F065RR08 ,  2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051CB03 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051DA09 ,  2G051EA11 ,  2G051EA21 ,  2G051EA23 ,  2G051EB05 ,  2G051ED23 ,  2H095BD03 ,  2H095BD27 ,  2H095BD31 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CH08 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC06 ,  5B057DC33 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096FA34 ,  5L096FA60 ,  5L096FA69 ,  5L096GA55 ,  5L096HA07 ,  5L096JA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 自動フォトマスク検査装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-177462   出願人：ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション

審査官引用 (4件)

• パターン検査装置、パターン検査方法およびパターン検査プログラムを格納した記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-275685   出願人：株式会社東芝
• 欠陥検出方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-208813   出願人：株式会社日立製作所
• 欠陥検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-089957   出願人：株式会社東芝
• パタン検査装置及び検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-058551   出願人：株式会社東芝