特許

J-GLOBAL ID：200903094888185844

ウエハの洗浄方法

発明者： 逢坂 勉
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (2件)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-069486
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281620
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】ウエハに付着した無機性或いは有機性汚染物質、特にウエハに付着した微粒子状の汚染物質を、少ない薬品使用量で確実に除去できるウエハの洗浄方法を提供する。【解決手段】本方法は、酸化性ガスとウエハとを接触させ、ウエハ表層を酸化してウエハ表面上に酸化膜を生成させる酸化膜生成工程(ステップS1 )と、ウエハを水蒸気に接触させる水蒸気接触工程(ステップS2 )と、ウエハをエッチングガスに接触させ、ウエハ表面上の酸化膜をエッチングして除去する酸化膜エッチング工程(ステップS3 )と、リンス処理工程(ステップS4 )と、乾燥処理工程(ステップS5 、S6 )とを有する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

ウエハを洗浄して、ウエハの表面に付着している物質を除去する方法であって、 酸化性ガスとウエハとを接触させ、ウエハ表層を酸化してウエハ面上に酸化膜を生成させる酸化膜生成工程と、 ウエハを水蒸気に接触させる水蒸気接触工程と、 ウエハをエッチングガスに接触させ、ウエハ面上の酸化膜をエッチングして除去する酸化膜エッチング工程と を有することを特徴とするウエハの洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L21/302 ,  H01L21/304 ,  H01L21/308

FI (5件)：

H01L21/302 201A ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/308 G

Fターム (9件)：

5F004AA14 ,  5F004BA19 ,  5F004BB24 ,  5F004DA20 ,  5F004DB03 ,  5F004FA08 ,  5F043BB22 ,  5F043BB27 ,  5F043DD15