重合性基を有する化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：萼経夫 , 宮崎嘉夫 , 舘石光雄 , 中村壽夫 , 加藤勉 , 小野塚薫 , ▲高▼ 昌宏 , 村越祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-255772
公開番号（公開出願番号）：特開2008-076740
出願日： 2006年09月21日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機EL表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(A)成分:フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が2,000乃至50,000であるアルカリ可溶性樹脂、(B)成分:重合性基を2個以上有する化合物、(C)成分:光酸発生剤、(D)成分:酸により反応する架橋剤、(E)溶剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び(E)溶剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物。 (A)成分:フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも1種の有機基を有し、且つ、数平均分子量が2,000乃至50,000であるアルカリ可溶性樹脂、 (B)成分:重合性基を2個以上有する化合物、 (C)成分:光酸発生剤、 (D)成分:酸により反応する架橋剤、 (E)溶剤。

IPC (7件)：

G03F 7/038 , G03F 7/033 , G03F 7/037 , G03F 7/027 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , G02B 5/20

FI (8件)：

G03F7/038 601 , G03F7/033 , G03F7/037 501 , G03F7/027 , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R , G02B5/20 101

Fターム (27件)：

2H025AA06 , 2H025AA10 , 2H025AA20 , 2H025AB13 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC14 , 2H025BC19 , 2H025BC43 , 2H025BE00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB25 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H048BA11 , 2H048BA48 , 2H048BB42

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭62-164045号公報
ネガ型感光性樹脂組成物及び画像形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-191230 出願人：三菱化学株式会社

審査官引用 (5件)

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-005374 出願人：富士写真フイルム株式会社
化学増幅型ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-226565 出願人：信越化学工業株式会社
エポキシ含有物質を含むネガ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-056106 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

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