特許
J-GLOBAL ID:200903094897954354

排ガス浄化用触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-153781
公開番号(公開出願番号):特開2006-326495
出願日: 2005年05月26日
公開日(公表日): 2006年12月07日
要約:
【課題】 三元触媒としての浄化性能を維持しつつH2 Sの排出を抑制することができる排ガス浄化用触媒を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の排ガス浄化用触媒は、担体基材と、該担体基材に担持され、貴金属と、多孔質酸化物と、Ni、Bi、Sn、Fe、Co、CuおよびZnから選ばれる少なくとも1種を含む添加酸化物と、を含む触媒層と、を有する排ガス浄化用触媒であって、排ガス流の下流側に配置される前記担体基材の下流部は前記添加酸化物を含み、該担体基材の上流部は該添加酸化物を含まないことを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
担体基材と、 該担体基材に担持され、貴金属と、多孔質酸化物と、Ni、Bi、Sn、Fe、Co、CuおよびZnから選ばれる少なくとも1種を含む添加酸化物と、を含む触媒層と、 を有する排ガス浄化用触媒であって、 排ガス流の下流側に配置される前記担体基材の下流部は前記添加酸化物を含み、該担体基材の上流部は該添加酸化物を含まないことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (6件):
B01J 35/04 ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/644 ,  B01J 23/62 ,  B01J 23/89 ,  F01N 3/10
FI (6件):
B01J35/04 301L ,  B01D53/36 104A ,  B01J23/64 101A ,  B01J23/62 A ,  B01J23/89 A ,  F01N3/10 A
Fターム (65件):
3G091AB01 ,  3G091BA17 ,  3G091GB01W ,  3G091GB05W ,  3G091GB10W ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB05 ,  4D048BA03X ,  4D048BA08X ,  4D048BA16Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA21X ,  4D048BA22X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33X ,  4D048BA34Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36X ,  4D048BA37Y ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048BB16 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06B ,  4G169BC22A ,  4G169BC22B ,  4G169BC25A ,  4G169BC25B ,  4G169BC31A ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC35A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC69A ,  4G169BC71B ,  4G169BC75B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA09 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EC29 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FA03 ,  4G169FB14 ,  4G169FB15 ,  4G169FB19 ,  4G169FB30
引用特許:
出願人引用 (3件)

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