光学マスクおよびマスクブランク

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-254140
公開番号（公開出願番号）：特開平7-110571
出願日： 1993年10月12日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】従来は光透過部と位相シフト部との各透過率に多大な差があるために、露光転写の際に光強度に差が生じて解像度や寸法ばらつきに大きな問題が生じていた状況を改善し、本光学マスクにより露光転写されたレジストパターンが、位相シフト技術を用いない従来の露光法の場合よりも寸法精度が高いことは勿論、解像度向上で充分な効果を上げ、しかも転写パターン寸法のばらつきも低減出来る光学マスクとそれに用いられるマスクブランクとを提供する。【構成】透明基板に遮光部、光透過部、そして位相シフト部とを備えた光学マスクにおいて、該光学マスクを使用してフォトファブリケーションを行なう際の露光波長に対する透過率に関して、光透過部と位相シフト部との両者の透過率が同等になる層構成にすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明基板に遮光部、光透過部、そして位相シフト部とを備えた光学マスクにおいて、該光学マスクを使用してフォトファブリケーションを行なう際の露光波長に対する透過率に関して、光透過部と位相シフト部との両者の透過率が同等であることを特徴とする光学マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

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