特許
J-GLOBAL ID：200903094918699740
ドライエツチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206300
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029276
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 発光強度の検出値のゆらぎを相殺してエッチング終点の検出感度を向上させる。【構成】 エッチングにより発生する反応生成物のスペクトルと重なるスペクトルを有するプラズマ安定化ガスと、エッチングガスとしてCF系ガスとを反応容器4内へ導入して被処理体18のエッチングを行なう際して、CF系ガスの活性種であるCF2ラジカルの発光強度を検出し、エッチングで発生した反応生成物であるCOガスの発光強度を検出し、これら検出値の比の変化を監視することにり、エッチングの終点を検出する。
請求項（抜粋）：
エッチングによる反応生成物のスペクトルと重なるスペクトルを有するプラズマ安定化ガスと、エッチングに関与するCF系ガスとを反応容器内に導入して被処理体をエッチングする方法において、前記CF系ガスの活性種の発光強度を検出すると共に、前記反応生成物の発光強度を検出し、前記得られた2つの発光強度の比に基づいてエッチングの終点を検出するように構成したことを特徴とするドライエッチング方法。
引用特許：
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