特許

J-GLOBAL ID：200903094920754155

処理装置

発明者： 守谷 修司
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-326057
公開番号（公開出願番号）：特開2000-138274
出願日： 1998年10月30日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 レーザ光を用いることによって、リアルタイムで処理容器内のパーティクルの状況を正確に認識することができる処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体ボート30に多段に載置された複数の被処理体Wを処理容器20内に収容して所定の処理を施すようにした処理装置において、レーザ光Lを出力するレーザ発光手段54と、前記レーザ光Lを前記処理容器20内へ導入して前記被処理体W間を通過する方向へ放射させる光導入手段56と、前記被処理体W間を通過したレーザ光Lを受けて前記処理容器20の外へ導出させる光導出手段58と、この光導出手段58に導かれた光を検出する受光手段60と、この受光手段60の検出値に基づいて前記処理容器20内のパーティクルの存在状態を判別するパーティクル評価手段62とを備える。これにより、レーザ光を用いることによって、リアルタイムで処理容器内のパーティクルの状況を正確に認識する。

請求項（抜粋）：

被処理体ボートに多段に載置された複数の被処理体を処理容器内に収容して所定の処理を施すようにした処理装置において、レーザ光を出力するレーザ発光手段と、前記レーザ光を前記処理容器内へ導入して前記被処理体間を通過する方向へ放射させる光導入手段と、前記被処理体間を通過したレーザ光を受けて前記処理容器の外へ導出させる光導出手段と、この光導出手段に導かれた光を検出する受光手段と、この受光手段の検出値に基づいて前記処理容器内におけるパーティクルの存在状態を判別するパーティクル評価手段とを備えたことを特徴とする処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/66 ,  B01L 1/04 ,  G01N 15/00 ,  G01N 21/49 ,  G01N 21/63 ,  G06M 1/272 ,  H01L 21/02

FI (7件)：

H01L 21/66 Z ,  B01L 1/04 ,  G01N 15/00 A ,  G01N 21/49 Z ,  G01N 21/63 Z ,  G06M 1/272 ,  H01L 21/02 D

Fターム (36件)：

2G043AA03 ,  2G043CA06 ,  2G043DA08 ,  2G043EA14 ,  2G043FA03 ,  2G043FA05 ,  2G043GA02 ,  2G043GA04 ,  2G043GB03 ,  2G043GB17 ,  2G043HA02 ,  2G043HA05 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01 ,  2G043MA01 ,  2G059AA05 ,  2G059BB09 ,  2G059DD15 ,  2G059EE02 ,  2G059FF04 ,  2G059FF06 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK01 ,  2G059LL04 ,  2G059NN01 ,  4G057AA00 ,  4M106AA20 ,  4M106BA05 ,  4M106CA41 ,  4M106DH01 ,  4M106DH12 ,  4M106DH32 ,  4M106DH37 ,  4M106DH60