特許
J-GLOBAL ID：200903094934291115
ウェハ書き込み方法及びウェハ読み取り方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-302028
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145017
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 ウェハに情報を簡単に書き込むことができるウェハ書き込み方法及び容易に情報を読み取ることができるウェハ読み取り方法を提供する。【解決手段】 書き込み情報と、ブロック内の各情報開孔部とを予め関連付けておき、所望の書き込み情報に対応した情報開孔部に穴を形成し、ブロックの上部で、かつ、ブロック内の所定数の列に相当するウェハ上100の位置に位置開孔部1a〜1fを形成してウェハ100への書き込みを行い、このように書き込んだウェハ100に対し、位置開孔部1a〜1fを検出し、位置開孔部1a〜1fの検出と同じタイミングでブロック7a、7b内の情報開孔部2a〜2f、3a〜3f、4a〜4fを検出し、この検出信号によって、ブロック7a、7b内において穴が形成された情報開孔部を特定し、その結果に基づいてウェハ100に書き込まれた情報を読み取るものである。
請求項（抜粋）：
書き込み情報と、所定数の行及び列からなるブロック内において、行及び列によって特定される開孔位置とを予め関連付けておき、所望の書き込み情報に対応したブロック内の開孔位置に相当するウェハ上の位置に情報開孔を形成する工程と、前記ウェハ上に形成された情報開孔に対応したブロックに相当するウェハ上の領域の上部又は下部であって、ブロック内の所定数の列に相当するウェハ上の位置に位置開孔を形成する工程とを有することを特徴とするウェハ書き込み方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 A
, H01L 21/68 A
