特許
J-GLOBAL ID:200903094949876420
印刷回路用銅箔の表面処理方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-252009
公開番号(公開出願番号):特開平6-085455
出願日: 1992年08月28日
公開日(公表日): 1994年03月25日
要約:
【要約】【目的】 銅箔の光沢面の長期保存性(耐湿性)を改善する処理方法の確立。【構成】 印刷回路用銅箔の光沢面に(1)Zn又はZn合金めっきを施しその後クロメート処理するか或いは(2)Zn又はZn合金めっきを施しその後電解亜鉛・クロム処理してクロム酸化物と亜鉛及び(又は)亜鉛酸化物との混合皮膜を形成するか或いは(3)電解亜鉛・クロム処理してクロム酸化物と亜鉛及び(又は)亜鉛酸化物との混合皮膜を形成し、その後、処理表面をベンゾトリアゾール又はベンゾトリアゾール誘導体(例、ベンゾトリアゾールモノエタノールアミン塩、ベンゾトリアゾールシクロヘキシルアミン塩、ベンゾトリアゾールモルホリン塩等)で処理することを特徴とする印刷回路用銅箔の光沢面処理方法。銅箔の長期保管を可能とした。
請求項(抜粋):
印刷回路用銅箔の光沢面にZn又はZn合金めっきを施し、その後該Zn又はZn合金めっき表面をクロメート処理し、更にクロメート処理表面をベンゾトリアゾール又はベンゾトリアゾール誘導体で処理することを特徴とする印刷回路用銅箔の光沢面処理方法。
IPC (3件):
H05K 3/38
, C23C 28/00
, C23F 11/14
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
特開昭56-087676
-
特開昭59-143091
-
特開昭56-118390
前のページに戻る