特許

J-GLOBAL ID：200903094951409057

表面処理装置

発明者： 三木 正博
出願人/特許権者： 三木 正博
代理人 (1件)： 尾関 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-362877
公開番号（公開出願番号）：特開2002-166236
出願日： 2000年11月29日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】【課題】従来の薬液洗浄技術と溶剤洗浄技術から脱却した全く新しい表面処理技術を開発すること。【解決手段】炭素数6以下の脂肪族および脂環族のアルコール、ケトン、エーテル、エステル、含窒素化合物又は(及び)水のいずれかの分子を処理表面の介在物質に浸透させる分子浸透装置と、分子浸透した介在物質を空気、水及び水蒸気の少なくとも一つの流体により処理表面から脱離させる脱離装置とを組み合わせること。

請求項（抜粋）：

炭素数6以下の脂肪族および脂環族のアルコール、ケトン、エーテル、エステル、含窒素化合物又は(及び)水のいずれかの分子を処理表面の介在物質に浸透させる分子浸透装置と、分子浸透した介在物質を空気、水及び水蒸気の少なくとも一つの流体により処理表面から脱離させる脱離装置との組み合わせから成ることを特徴とする表面処理装置。

IPC (7件)：

B08B 3/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647

FI (7件)：

B08B 3/08 Z ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50 ,  C11D 17/00 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 A

Fターム (23件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB53 ,  3B201BB01 ,  3B201BB11 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB99 ,  3B201BC01 ,  3B201CD31 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DA16 ,  4H003DC01 ,  4H003ED02 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003ED30 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA03