特許

J-GLOBAL ID：200903094961676835

ゴム組成物およびそれを用いてなるゴム

発明者： 三宅 賢 ,  中山 大三
出願人/特許権者： 東海ゴム工業株式会社
代理人 (1件)： 大家 邦久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-028723
公開番号（公開出願番号）：特開平9-194633
出願日： 1996年01月24日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【構成】 天然ゴムと加硫剤と、天然ゴム100重量部に対して(a)N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミドまたはN-オキシジエチレン-2-ベンゾチアジルスルフェンアミド0.3 〜2.0 (1.5) 重量部と、(b)テトラキス(2-エチルヘキシル)チウラムジスルフィド0.3 〜5.0 重量部と、所望により(c)4,4′-ジチオ-ジモルホリン 0.3〜4.0 重量部とを含有するゴム組成物およびそれを加硫成形してなるゴム。【効果】 射出成形機により高温短時間加硫を行なってもスコーチすることなく、大型厚物品の成形が容易にかつ効率よく行なえる。得られる加硫成形ゴムは圧縮永久歪が小さく機械的強度が良好であり、ゴム緩衝器を始めとする鉄道車輌用ゴムおよびゴム支承を始めとする一般産業用ゴム、エンジンマウントを始めとする各種自動車用ゴムなどの構成部材として有用である。

請求項（抜粋）：

天然ゴムと加硫剤と、天然ゴム100重量部に対して(a)N-シクロヘキシル-2-ベンゾチアゾリルスルフェンアミドまたはN-オキシジエチレン-2-ベンゾチアジルスルフェンアミドのいずれか1種0.3 〜2.0 重量部と、(b)テトラキス(2-エチルヘキシル)チウラムジスルフィド0.3 〜5.0 重量部とを含有することを特徴とするゴム組成物。

IPC (3件)：

C08L 7/00 LAY ,  C08K 5/40 KDP ,  C08K 5/44 KDR

FI (3件)：

C08L 7/00 LAY ,  C08K 5/40 KDP ,  C08K 5/44 KDR

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ゴム組成物及びこれを使用した防振ゴム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-044062   出願人：株式会社ブリヂストン