特許
J-GLOBAL ID：200903094968302361
干渉計
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-328735
公開番号（公開出願番号）：特開平7-190714
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：
【要約】【目的】 偏光プリズムと波長板等を組み合わせ2つの面の間を通る光路を有する干渉計により面間隔を精度よく測定する。【構成】 異なる周波数のp偏光とs偏光を発生するレーザ3、受光素子9、偏光膜501を持つ偏光プリズム5、偏光板8、1/4波長板6,7を含む。法線が重なる面1,2の間に偏光プリズムと偏光面を回転するための1/4波長板が配され、レーザからの入射s偏光成分を測定光束とし、該光束は面1,2の間を往復して偏光板を通し受光素子に入る。一方、参照光束のp偏光成分は偏光プリズムを透過し偏光板を通し受光素子に入る。2つの面間の光路を往復する測定光束と同光路を通らない参照光束を有する干渉計により面間隔を精度よく測定できる。干渉縞の位相を測定する干渉計に比し小型かつ製作も容易である。大きな表面であっても走査することにより形状の測定が可能である。
請求項（抜粋）：
直交する2つの偏光成分を発生する偏光発生手段と、該偏光発生手段から発せられる第1の偏光成分と第2の偏光成分のうち、一方を反射し、他方を透過させる偏光プリズムを少なくとも1つと、偏光成分が透過する際該偏光面を回転する波長板が少なくとも2枚と、偏光板と、前記第1の偏光成分と第2の偏光成分を受光する受光素子とを有し、前記偏光発生手段から発生した偏光成分のうち、前記偏光プリズムを透過する偏光成分を参照光束とし、該参照光束が前記偏光板を透過する一方、前記偏光発生手段から発生した偏光成分のうち、前記偏光プリズムを反射する偏光成分を測定光束とし、該測定光束が前記波長板のうち1枚を透過し、測定する面に到達・反射した後、前記波長板を透過し、前記偏光プリズムの少なくとも1つを透過後、前記波長板ともう1枚の波長板を透過し、前記測定する面とは対向する測定面に到達・反射した後、前記もう1枚の波長板を透過した後、前記偏光プリズムの少なくとも1つで反射し、前記偏光板を透過し、前記偏光板を透過した前記参照光束及び前記測定光束を前記受光素子によって受光するようになすことを特徴とする干渉計。
IPC (2件)：
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