欠陥検出方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-268992
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122193
出願日： 1993年10月27日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】被検査物の欠陥を画像上で強調することによって精度の高い欠陥検出を行うことが可能な欠陥検出方法および装置を提供する。【構成】検査対象を撮像して二次元に整列配置された複数の画素毎の輝度情報を得るエリアセンサ3と、エリアセンサ3によって得られた画素毎の輝度情報を前記ピッチに対応させて縦横それぞれ所定数の画素行列からなる格子に切り分け、その各格子内の各画素の輝度情報を加算して各格子毎の輝度加算値を求める輝度情報加算部5と、各格子間での輝度加算値の変化量を水平方向および垂直方向についてそれぞれ求める変化量算出部7と、前記水平方向の変化量と垂直方向の変化量が所定より多い場合、欠陥として検出する検出部9とから構成される。

請求項（抜粋）：

所定のピッチで整列配置された複数の被検査物から成る領域を検査対象とし、前記被検査物を含む検査対象内の欠陥を検出する欠陥検出方法において、前記被検査物を撮像して二次元に整列配置された複数の画素毎の輝度情報をセンサで得る工程と、前記センサによって得られた画素毎の輝度情報を前記ピッチに対応させて縦横それぞれ所定数の画素行列からなる格子に切り分け、その各格子内の各画素の輝度情報を加算して各格子毎の輝度加算値を求める輝度情報加算工程と、各格子間での輝度加算値の変化量を水平方向および垂直方向のそれぞれについて求める変化量算出工程と、前記水平方向の変化量と垂直方向の変化量が所定より多い場合、欠陥として検出する検出工程と、から成ることを特徴とする欠陥検出方法。

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭63-042454
特開平1-307644
特開平2-176978

全件表示

前のページに戻る