特許

J-GLOBAL ID：200903094973922386

ポリスルホン微孔性膜及びその製法

発明者： 大谷 純生
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-268818
公開番号（公開出願番号）：特開2004-105804
出願日： 2002年09月13日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】ポリスルホン系の親水性微孔性膜からろ液に僅かではあるが表面に残留しているポリビニルピロリドンが溶出する。ポリビニルピロリドンは食品添加や医薬品への添加が世界で広く認められている安全な物質ではあるが、本ろ過膜を半導体製造や液晶セル製造の洗浄水ろ過に使用する場合は、微量の不純物の溶出も許容が難しくなってきた。本発明の目的はろ液への有機物溶出を少なくし、透水速度が早く、親水性も優れているポリスルホン系微孔性膜の製造方法を提供することにある。【解決手段】ポリスルホン系ポリマーとポリビニルピロリドンを溶媒に溶解した溶液を支持体に流延し、凝固浴に浸漬する工程よりなるポリスルホン系微孔性膜の製造方法において、K値が10から75のポリビニルピロリドンを使用することを特徴とする微孔性膜の製造方法によって達成できる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ポリスルホン系ポリマーとポリビニルピロリドンを溶媒に溶解した溶液を支持体に流延し、凝固浴に浸漬する工程よりなるポリスルホン系微孔性膜の製造方法において、K値が10〜75のポリビニルピロリドンを使用することを特徴とする微孔性膜の製造方法。

IPC (4件)：

B01D71/68 ,  B01D71/44 ,  B29C41/12 ,  C08J9/26

FI (5件)：

B01D71/68 ,  B01D71/44 ,  B29C41/12 ,  C08J9/26 102 ,  C08J9/26

Fターム (56件)：

4D006GA07 ,  4D006MA03 ,  4D006MB02 ,  4D006MB09 ,  4D006MC40X ,  4D006MC62X ,  4D006MC85 ,  4D006MC86 ,  4D006MC88 ,  4D006NA04 ,  4D006NA10 ,  4D006NA16 ,  4D006NA54 ,  4D006NA64 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB02 ,  4D006PB13 ,  4D006PB24 ,  4D006PB32 ,  4D006PC02 ,  4D006PC11 ,  4F074AA16 ,  4F074AA87 ,  4F074AA98 ,  4F074AB01 ,  4F074AC13 ,  4F074AD13 ,  4F074AG20 ,  4F074AH03 ,  4F074CB03 ,  4F074CB17 ,  4F074CB28 ,  4F074CC27Y ,  4F074CC28Z ,  4F074CC32Y ,  4F074DA14 ,  4F074DA24 ,  4F074DA43 ,  4F074DA53 ,  4F074DA59 ,  4F205AA34 ,  4F205AB02 ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AH03 ,  4F205AR20 ,  4F205GA07 ,  4F205GB01 ,  4F205GE03 ,  4F205GE24 ,  4F205GF02 ,  4F205GF24 ,  4F205GN22 ,  4F205GN29 ,  4F205GN30