特許

J-GLOBAL ID：200903094974016028

多軸電子レンズを用いたマルチビーム露光装置、複数の電子ビームを集束する多軸電子レンズ、半導体素子製造方法

発明者： 濱口 新一 ,  原口 岳士 ,  安田 洋
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001002282
公開番号（公開出願番号）：WO2001-075948
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2001年10月11日
要約：

【要約】複数の電子ビームが通過し、複数の電子ビームを独立に集束する複数のレンズ開口部と、複数の電子ビームが通過しない複数のダミー開口部とを有する多軸電子レンズを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置を提供する。多軸電子レンズは、電子ビームが通過しない複数のダミー開口部を、複数のレンズ開口部が設けられた領域の外周に有することが好ましく、また、多軸電子レンズは、複数のダミー開口部を、複数のレンズ開口部が設けられた領域の外周に多重に有してもよい。

請求項（抜粋）：

複数の電子ビームにより、ウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、 前記複数の電子ビームが通過し、前記複数の電子ビームを独立に集束する複数のレンズ開口部と、前記複数の電子ビームが通過しない複数のダミー開口部とを有する多軸電子レンズを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/141 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 W ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/141 Z ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 E