特許

J-GLOBAL ID：200903094979058438

液相エピタキシャル成長装置

発明者： 富塚 雄二 ,  富田 祐志
出願人/特許権者： 日新製鋼株式会社
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-221919
公開番号（公開出願番号）：特開平7-069784
出願日： 1993年09月07日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【目的】 浮き板によって原料融液を撹拌均質化し、エピタキシャル成長を迅速に開始する。【構成】 原料融液2が収容される融液溜め3の下方に成長槽4を配置し、複数の基板ウエハ1を成長槽4に収容する。成長槽4は、融液溜め3に延びる押え棒14を一体的に備えており、複数の貫通孔11が形成された浮き板10が押え棒14に差し込まれている。浮き板10は、押え棒14の係合部16で浮上が拘束され、成長槽4の相対的移動によって拘束状態から解放されて上昇する。【効果】 浮き板10の上昇による撹拌流で原料融液2が均質化され、原料融液2が短時間で調製される。

請求項（抜粋）：

原料融液が収容される融液溜めと、該融液溜めの下方に配置され、複数の基板ウエハを収容する成長槽と、該成長槽に一体化され、前記融液溜めに延びる押え棒と、前記原料融液が通過する複数の貫通孔が形成され、前記押え棒の係合部で浮上が拘束される浮き板とを備え、前記成長槽の相対的移動によって前記融液溜めの流出孔に前記成長槽の流出孔が一致する前に、前記浮き板の拘束状態が解除されることを特徴とする液相エピタキシャル成長装置。