特許
J-GLOBAL ID:200903094979802234

熱処理性画像形成要素

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-278825
公開番号(公開出願番号):特開2000-112076
出願日: 1999年09月30日
公開日(公表日): 2000年04月21日
要約:
【要約】【課題】 表面摩擦が低い熱処理性要素を提供することである。【解決手段】 (1)支持体;(2)支持体上に塗布された少なくとも1層のサーモグラフィ又はフォトサーモグラフィ画像形成層;及び(3)要素の少なくとも1つの主面を覆う、フィルム形成性バインダーを含有する表面塗膜、を含んでなる熱処理性画像形成要素であって、式:(R1 )4-y -Si-(OR2 )y(式中、R1 は、炭素数8〜32の飽和炭化水素からなり、R2 は、炭素数1〜4のアルキル基であり、Yは、1〜3の整数である)により表される摩擦低減性化合物が、前記表面塗膜に封じ込められている熱処理性画像形成要素。
請求項(抜粋):
支持体;支持体上に塗布された少なくとも1層のサーモグラフィ又はフォトサーモグラフィ画像形成層;及び要素の少なくとも1つの主面を覆う、フィルム形成性バインダーを含有する表面塗膜を含んでなる熱処理性画像形成要素であって、式:(R1 )4-y -Si-(OR2 )y (式中、R1 は、炭素数8〜32の飽和炭化水素からなり、R2 は、炭素数1〜4のアルキル基であり、Yは、1〜3の整数である)により表される摩擦低減性化合物が、前記表面塗膜に封じ込められている熱処理性画像形成要素。
IPC (3件):
G03C 1/76 351 ,  B41M 5/30 ,  G03C 1/498
FI (3件):
G03C 1/76 351 ,  G03C 1/498 ,  B41M 5/18 102 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)

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