特許

J-GLOBAL ID：200903094987268182

感光性組成物

発明者： 内藤 卓哉 ,  木原 尚子
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-054398
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266100
出願日： 1993年03月15日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】 本発明は化学増幅型レジストのパターン形状の向上を目的とする。【構成】 化学増幅型のレジストにおいて、光をはじめとする電離放射線の照射により分解する塩基性化合物を添加することにより、レジストパターンの形状を向上させた。その結果として微細パターン加工における解像度を飛躍的に向上させる等の効果が得られた。【効果】 本発明によりレジストのコントラストが向上し、微細パターン加工における解像度を飛躍的に向上できる。

請求項（抜粋）：

酸により分解又は架橋する置換基を有する化合物と、化学放射線の照射により酸を発生し得る化合物と、酸を中和し化学放射線の照射により分解又は酸の中和力が低下する化合物とからなる感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027