特許

J-GLOBAL ID：200903094990484503

チャンバーのプラズマクリーニング方法

発明者： 今井 宏 ,  山中 通成
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-087118
公開番号（公開出願番号）：特開平6-302565
出願日： 1993年04月14日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【目的】 チャンバー内に付着した反応生成物の除去を効率よく行なうことができ、チャンバーの真空を破ることなくクリーニングが可能なプラズマクリーニング方法を提供する。【構成】 アルミニウム合金膜の塩素系ガスを用いたドライエッチングの後、(1)NF3ガスのプラズマによるチャンバー1のクリーニングとO2ガスのプラズマによるチャンバー1のクリーニングを行ない、その後、メタン(CH4)とN2の混合ガスのプラズマを用いてチャンバー1をクリーニングするか、または、(2)NF3ガスのプラズマによるチャンバー1のクリーニングを行ない、その後、イソプロピルアルコール(i-C3H7OH)と酸素(O2)の混合ガスのプラズマを用いてチャンバーをクリーニングする。

請求項（抜粋）：

塩素系あるいは臭素系のガスを用いた金属薄膜のドライエッチング後にチャンバーをクリーニングする方法において、少なくとも水素を含む有機化合物のガスのプラズマを用いることを特徴とするチャンバーのプラズマクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00