特許
J-GLOBAL ID：200903094996190862
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-305747
公開番号（公開出願番号）：特開平6-162988
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、摺動シール部を無くすことにより、摩耗・発塵を防止すると共に構造を簡単にし保守点検を不要にしたイオン注入装置を提供する。【構成】 ディスク8を収容して、上下動作をカバー1と、イオン源16に接続されたバルブ15との間をベローズ18で接続したことを特徴とする。【効果】 本発明により、構造が簡単で、保守・点検が不要で、安定した品質のイオン注入装置が提供できる。
請求項（抜粋）：
開口部を有し、上下動するカバー内に、回転ディスクを収容したチャンバを、回転ディスクの一部を開口部に露出させて配置し、上記カバーの開口部をバルブを介して、イオン源に接続したイオン注入装置において、上記カバーとバルブをベローズにて接続したことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
