特許

J-GLOBAL ID：200903095003138948

フッ化物薄膜及びその製造方法及び光学薄膜及び光学素子

発明者： 北本 達也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-282262
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011602
出願日： 1999年10月04日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】 従来、紫外域、特にArF波長(193nm)の光学薄膜の光学性能を高性能化するにあたり、使用する膜物質が限定されるために、高屈折率物質と低屈折率物質の屈折率差を大きくすることができないので、ArF波長(193nm)に於いて用いられる光学薄膜は、可視域で用いられるものよりも光学性能が低かった。【解決手段】フッ化物基板上に二酸化ケイ素とフッ化物とから成る混合薄膜を共蒸着により形成した後、混合薄膜より二酸化ケイ素のみを選択的に除去することにより、低屈折率のフッ化物薄膜を作製した。

請求項（抜粋）：

基板上に二酸化ケイ素とフッ化物とから成る混合薄膜を形成する段階、前記混合薄膜より二酸化ケイ素のみを選択的に除去する段階を有することを特徴としたフッ化物薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

C23C 14/06 ,  C23C 14/58 ,  G02B 1/04

FI (3件)：

C23C 14/06 L ,  C23C 14/58 Z ,  G02B 1/04

Fターム (7件)：

4K029AA04 ,  4K029BA42 ,  4K029BA64 ,  4K029BC07 ,  4K029DB14 ,  4K029EA00 ,  4K029GA00